解決方案
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NTHC200
NTHC200 Gas Trap為通過改變粉體的物理狀態，形成粉體捕集粉體。

  • 攔截粉塵，避免工藝運行過程中泵異常卡死
  • 延長干泵運行壽命ü防止回流污染主工藝腔室
  • 降低工藝設備宕機率，提高客戶產能
  • 加熱套、管道涂層成本最小化
  • 防止排氣堵塞
  • 主要應用行業：Semi、FPD、Solar、LED
  • 主要應用工藝：Tin-CVD, Metal-etch, ALD, SIN, BPSG, Nitride, W-CVD